2.4.2微珠的埋植深度對反光強度的影響
在回歸反射織物的加工過程中,通過控制工藝參數(shù)而控制微珠的埋植深度是非常重要的。如果微珠陷入反射層過深,玻璃微珠接受到的入射光相對較少;其次,光線進入微珠經(jīng)折射后有一部分將回不到光源方向(如圖8)。而過淺則反射層不可能有效地包覆于微珠的背面,有透射現(xiàn)象產(chǎn)生,同時反映在產(chǎn)品上的微珠耐洗滌、耐摩擦牢度的降低。因此微珠埋植過深或過淺都使反光亮度降低。經(jīng)過大量橫斷面掃描電鏡照片的觀察后發(fā)現(xiàn):微珠的埋植深度約為其直徑的二分之一到三分之一較理想。
2.4.3微珠分布狀態(tài)對反光強度的影響
(1)密度玻璃微珠分布得密集、均勻,則產(chǎn)品的反光強度高;如果玻璃微珠分布不密集均勻,在顯微鏡下觀察,玻璃微珠聚集成一堆一堆,或分散成稀稀拉拉,產(chǎn)品的反光強度就相對較低(如圖9)。
(2)排列層次定向反光布表面的微珠必須保證單層排列,避免多層摞珠。否則,摞在珠子上面的沒有了反射層的襯托就失去回歸反射性能(見前面反射體的影響),并且這部分珠子與粘合劑接觸面小,牢度差,一搓就掉(如圖10、11)。經(jīng)大量實驗驗證:有多層摞珠的產(chǎn)品,反光強度低,隨著磨擦或洗滌次數(shù)的增加,反光強度衰減嚴重。
3結(jié)論:
1、本試驗選用的基布,經(jīng)過四種前處理工藝比較,選擇出了最好的前處理工藝,明顯改善了織物固有的凹凸不平或填塞了布孔,改善了產(chǎn)品表觀,防止了加工過程中的布孔滲透問題,解決產(chǎn)品多次洗滌后皮膜與基布的剝離問題。實驗表明1、2、3號基布經(jīng)前處理后均可制作性能良好的反光布。
2、粘合劑及其它化工原材料的篩選是一項大量的工作,其粘接性、透明度、柔軟性等對反光布性能的影響很大。
3、鏡面反射層的設(shè)置是必不可少的。選擇適當(dāng)?shù)溺R面材料反射及工藝可大幅度的提高反光強度值。
4、反光元件—玻璃微珠的折射率、大小、埋植深度、排列密度等對產(chǎn)品的反光強度的影響有一定的規(guī)律,但綜合起來的影響是復(fù)雜的,還需進一步研究。如玻璃微珠的折射率在我國只有1.9~2.2和1.5的普通玻璃珠,其它規(guī)格尚未見到。
總之,植珠法反光布加工技術(shù)中的關(guān)鍵因素較多,要獲得性能良好的反光布,除了選擇合適的原材料外,還須依賴各層具體材料及各道加工工藝配方、參數(shù)、設(shè)備等諸多方面的配合。
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