離子束反應(yīng)濺射系統(tǒng)
 

Intlvac的Nanoquest系統(tǒng)是薄膜和材料研究的一個(gè)通用研發(fā)平臺(tái).該系統(tǒng)是直徑為4”單基板的最優(yōu)選擇. Nanoquest平臺(tái)可允許:離子束蝕刻, 離子束濺射,離子輔助蒸發(fā),以及離子輔助濺射都在同一平臺(tái) 上運(yùn)行．獨(dú)特的設(shè)計(jì)與基板臺(tái)，允許基板以360度的傾斜和旋轉(zhuǎn)進(jìn)行冷卻或加熱。該系統(tǒng)是安裝在一個(gè)壓縮的整塊鋼架上，鋼架上帶有一個(gè)整體電子機(jī)架，以盡量減少實(shí)驗(yàn)室或無(wú)塵室的空間。高真空的設(shè)計(jì)理念確保了快速周期時(shí)間和最低壓力的性能。超高壓氣體分布確保了離子源操作的穩(wěn)定性。

高真空泵:
閉合式循環(huán)泵與氦低溫泵或渦輪增壓拖動(dòng)泵以及干式低真空泵一起使用使得系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了完全無(wú)油。
標(biāo)準(zhǔn)配置:
·尺寸：直徑為20，長(zhǎng)為20的氣缸，裝有鉸接前門(mén)和焊接不銹鋼冷卻通道?；迮_(tái)是安裝的門(mén)。
·不銹鋼架和完整的儀器架。機(jī)架固定在觸摸屏PLC控制器上，用于自動(dòng)抽水，壓力控制，氣體流量控制，以及離子源的操作。
Nanoquest 1400R
·用于反應(yīng)氣體操作的蝕刻系統(tǒng)：O2, N2
·除了為電子源使用一個(gè)空心陰極，或等離子中和劑之外，基本與惰性氣體系統(tǒng)類(lèi)似．

Nanoquest 1400
·為惰性氣體操作而設(shè)計(jì)的蝕刻系統(tǒng)
·該系統(tǒng)有用于４，８或者１4厘米離子源，ＤＣ或者１4厘米ＲＦ離子源。
操作的離子源孔.
高流量，直接水冷2704階段與用于四分之一晶圓和晶圓壓板的干夾頭安裝。0 - 7rpm的階段旋轉(zhuǎn)，帶手動(dòng)角度傾斜。20 sccm超高壓氬氣線的氣體流量控制。

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