負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng)
時(shí)間：2012年01月17日
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負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng)
The INTLVAC Nanoquest I負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng)是最普遍的離子束研發(fā)平臺(tái)?？梢元?dú)立控制的離子能量，離子電流密度與入射角，離子束加工是最可控的薄膜刻蝕和沉積技術(shù)。能夠做從簡(jiǎn)單的惰性蝕刻到一個(gè)復(fù)雜的多層沉積用于潔凈室操作，可以安裝一個(gè)潔凈室墻上。系統(tǒng)的組成部分，如水泵很容易操作。真空設(shè)計(jì)規(guī)則確保蝕刻模塊和負(fù)載試驗(yàn)箱達(dá)到很低的基礎(chǔ)壓力的工藝。
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