離子束反應濺射系統(tǒng)
 

Intlvac的Nanoquest系統(tǒng)是薄膜和材料研究的一個通用研發(fā)平臺.該系統(tǒng)是直徑為4”單基板的最優(yōu)選擇. Nanoquest平臺可允許:離子束蝕刻, 離子束濺射,離子輔助蒸發(fā),以及離子輔助濺射都在同一平臺 上運行．獨特的設計與基板臺，允許基板以360度的傾斜和旋轉進行冷卻或加熱。該系統(tǒng)是安裝在一個壓縮的整塊鋼架上，鋼架上帶有一個整體電子機架，以盡量減少實驗室或無塵室的空間。高真空的設計理念確保了快速周期時間和最低壓力的性能。超高壓氣體分布確保了離子源操作的穩(wěn)定性。

高真空泵:
閉合式循環(huán)泵與氦低溫泵或渦輪增壓拖動泵以及干式低真空泵一起使用使得系統(tǒng)實現(xiàn)了完全無油。
標準配置:
·尺寸：直徑為20，長為20的氣缸，裝有鉸接前門和焊接不銹鋼冷卻通道。基板臺是安裝的門。
·不銹鋼架和完整的儀器架。機架固定在觸摸屏PLC控制器上，用于自動抽水，壓力控制，氣體流量控制，以及離子源的操作。
Nanoquest 1400R
·用于反應氣體操作的蝕刻系統(tǒng)：O2, N2
·除了為電子源使用一個空心陰極，或等離子中和劑之外，基本與惰性氣體系統(tǒng)類似．

Nanoquest 1400
·為惰性氣體操作而設計的蝕刻系統(tǒng)
·該系統(tǒng)有用于４，８或者１4厘米離子源，ＤＣ或者１4厘米ＲＦ離子源。
操作的離子源孔.
高流量，直接水冷2704階段與用于四分之一晶圓和晶圓壓板的干夾頭安裝。0 - 7rpm的階段旋轉，帶手動角度傾斜。20 sccm超高壓氬氣線的氣體流量控制。

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